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朱振刚 日记

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大理石抛光粉的组成  

2012-12-27 13:39:17|  分类: 默认分类 |  标签: |举报 |字号 订阅

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一 抛光粉的组成
抛光粉通常由氧化铈、氧化铝、氧化硅、氧化铁、氧化锆、氧化铬等组份组成,不同的材料的硬度不同,在水中的化学性质也不同,因此使用场合各不相同。氧化铝和氧化铬的莫氏硬度为9,氧化铈和氧化锆为7,氧化铁更低。
铈基稀土抛光粉是较为重要的稀土产品之一。因其具有切削能力强,抛光时间短、抛光精度高、操作环境清洁等优点,故比其他抛光粉(如Fe2O3红粉)的使用效果佳,而被人们称为“抛光粉之王”。目前该产品在我国发展较快,应用日广,产量猛增,发展前景看好,上海天恩石材防护有限公司销售的抛光粉属于此类产品,请中文搜索:“天恩石材防护”。
1.1 稀土抛光粉的发展过程
国外于60年前开始生产稀土抛光粉,二十世纪90年代已形成各种标准化、系列化的产品达30多种规格牌号。
目前,国外的稀土抛光粉生产厂家主要有15家(年生产能力为200吨以上者)。其中,法国罗地亚公司年生产能力为2200多吨。是目前世界上最大的稀土抛光粉生产厂家。美国的抛光粉年产量能力达1500吨以上。日本生产稀土抛光粉的原料采用氟碳铈矿、粗氯化铈和氯化稀土三种,工艺上各不相同。日本稀土抛光粉的生产在烧结设备和技术上均具特色。目前国内已有14个稀土抛光粉生产厂家(年生产能力达30吨以上者),最大的一家年生产能力为2220吨,但与国外相比仍有较大差距。
1.2 稀土抛光粉的组成及分类
1.2.1 以稀土抛光粉中CeO2量来划分:
稀土抛光粉的主要成分是CeO2,据其CeO2量的高低可将铈抛光粉分为两大类:一类是CeO2含量高的价高质优的高铈抛光粉,一般CeO2/TREO≥80%,另一类是CeO2含量低的廉价的低铈抛光粉,其铈含量在50%左右,或者低于50%,其余由La2O3,Nd2O3,Pr6O11组成。
1.2.2以稀土抛光粉的大小及粒度分布来划分:
1.3 抛光粉的生产原料
目前,我国生产铈系稀土抛光粉的原料有下列几种:
(1)氧化铈(CeO2),由混合稀土盐类经分离后所得(w(CeO2)=99%);
(2)混合稀土氢氧化物(RE(OH)3),为稀土精矿(w(REO)≥50%)化学处理后的中间原料(w(REO)=65%,w(CeO2)≥48%);
(3)混合氯化稀土(RECl3),从混合氯化稀土中萃取分离得到的少铕氯化稀土(主要含La,Ce,Pr和Nd,w(REO)≥45%,w(CeO2)≥50%);
(4)高品位稀土精矿(w(REO)≥60%,w(CeO2)≥48%),
1.4 主要生产工艺及设备
以稀土混合物分离后的氧化铈为原料,以物理化学方法加工成硬度大,粒度均匀、细小,呈面心立方晶体的粉末产品。其主要工艺过程为:原料→高温→煅烧→水淬→水力分级→过滤→烘干→高级铈系稀土抛光粉产品。
二、抛光粉与增光剂在石材上的应用
1、            先涂水性防护剂
作用:在石材毛面上涂防水剂将吸水量不均匀的石面改变为同一的不吸水石面可保证石色一致。(特别注意:在方料上先使用水性防护剂,这样会防止石材产生色差,待加工后再作防护。油性防护剂没有此作用。)
再涂密封剂
作用:防水剂干爽后,手摸不湿或2小时后,再涂密封剂干固1小时后,手摸不粘,再进行磨抛,若石面疏松或要更高亮度,可在第一次磨出的光面,复涂密封剂,干固后再磨抛,可倍增石面的密度与强度,更可高倍数增加石面清晰度和光亮度。
原理:密封剂从下而上,将打磨机磨不到的深度石孔(微孔)封闭,减少吸光石孔,增加反光度。打磨机从上向下削低石面,形成重合平面,平面产生反光的条件,石面的密度越高,光的折射率也随之提高。
2、              最后涂光亮剂+抛光粉
作用:经精磨后的成品,再涂镜面剂,用机抛干,即呈高光镜面。
原理:石材是由颗粒组成,再精细的打磨都会出现微孔,区别在石质的疏密所出现的孔多与孔少,孔大与孔小而已,这就需要在成品的石面填充覆盖镜面剂,完全封闭所剩的微孔,再次提高石面密度也就提高反光率,达到镜面效果。
提示:
水性防水剂是渗透型,始终是施工第一道工序。
溶剂型、半渗透型、密封剂是施工第二工序。
成膜型镜面剂+抛光粉抛光作微孔填封是最后的工序。
工序若调转将达不到应有的效果。
本材料与工艺从基础上加固石材,从里到外,质感一致,与涂膜树脂抛光相比,具有自然真实感,更牢固,不空鼓,不开裂分离,易保养。
本材料与工艺可使石材不吸水(或少吸水),不变形或少变形,本品系列无外作用力,也可随石材变形而变形,不会产生剥离开裂。
涂膜树脂粘聚在石面,厚度高才可防止石面不平被磨穿,高厚度的涂膜产生自有的强度与应力,石材干湿循环变形面涂膜树脂不吸水不变形,在各自的作用力下必然开裂空鼓。其它石材抛光请中文搜索:“天恩石材防护”。

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