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朱振刚 日记

色谱仪,光谱仪,红外线分析器制造

 
 
 

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光学薄膜工艺基础知识培训  

2012-10-26 12:53:58|  分类: 默认分类 |  标签: |举报 |字号 订阅

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?工艺因素对薄膜性能的影响机理大致为:

  ?一. 基片材料

  ? 1. 膨胀系数不同 热应力的主要 原因 ;

  ? 2. 化学亲和力不同 影响膜层附着力和牢固度;

  ? 3. 表面粗糙度和缺陷 散射的主要来源。

  ? 二. 基片清洁

  ? 残留在基片表面的污物和清洁剂将导致:

  ? 1. 膜层对基片的附着力差;

  ? 2. 散射吸收增大抗激光损伤能力差;

  ? 3. 透光性能变差。

  ?三. 离子轰击的作用

  ? 提高膜层在基片表面的凝聚系数和附着力;提高膜层的聚集密度,氧化物膜层的透过率增加,折射率提高,硬度和抗激光损伤阈值提高。

  ?四. 初始膜料

  ? 化学成分(纯度/杂质种类)、物理状态(粉/块)和预处理(真空烧结/锻压)影响膜层结构和性能

  ?五. 蒸发方法

  ? 不同蒸发方法提供给蒸发分子和原子的初始动能差异很大,导致膜层结构有较大差异,表现为折射率、散射、附着力有差异。

  ?六. 蒸发速率

  ? 速率是动能的又一表征,它对膜层的折射率、应力、附着力有明显影响。

  ?七. 真空度

  ? 对膜层聚集密度,化学成分有影响,从而使膜层的折射率、硬度,牢固性发生变化。

  ?八. 蒸气入射角

  ? 影响膜层的生长结构和聚集密度。对膜层的折射率和散射性能有较大影响。一般应限制在30°之内。

 
 
 

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